About: Mise au point et optimisation d'un équipement industriel de dépôts chimiques en phase vapeur activés par plasma (PACVD)

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type	frbr:Work rdac:C10001
Author	Laparra, Olivier (1959-....)
alternative label	DEVELOPMENT AND OPTIMIZATION OF AN INDUSTRIAL EQUIPMENT FOR PLASMA ACTIVATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (PACVD)
dc:subject	Thèses et écrits académiques Couches minces Technique des plasmas Circuits intégrés SCIENCES APPLIQUEES : ELECTRONIQUE Couches minces semiconductrices Dispositifs à plasma FABRICATION MICROELECTRONIQUE/APPAREILLAGE/INSTALLATION INDUSTRIELLE/DEPOT/DEPOT CHIMIQUE PHASE VAPEUR/ACTIVATION PAR PARTICULE CHARGEE/DEPOT PLASMA/OPTIMISATION/PERFORMANCE/COUCHE MINCE/DIELECTRIQUE/ISOLATION ELECTRIQUE/CIRCUIT INTEGRE/PARAMETRE/TECHNOLOGIE placage en phase vapeur MICROELECTRONIC FABRICATION/INSTRUMENTATION/INDUSTRIAL INSTALLATION/DEPOSITION/CHEMICAL VAPOR DEPOSITION/CHARGED PARTICLE ACTIVATION/PLASMA DEPOSITION/OPTIMIZATION/PERFORMANCE/THIN FILM/DIELECTRIC MATERIALS/ELECTRICAL INSULATION/INTEGRATED CIRCUIT/PARAMETER/TECHNOLOGY
preferred label	Mise au point et optimisation d'un équipement industriel de dépôts chimiques en phase vapeur activés par plasma (PACVD)
Language	http://lexvo.org/id/iso639-3/fra
Subject	http://www.idref.fr/031451519/id http://www.idref.fr/027674533/id http://www.idref.fr/027282295/id http://www.idref.fr/027871436/id http://www.idref.fr/027223221/id http://www.idref.fr/027253139/id
dc:title	Mise au point et optimisation d'un équipement industriel de dépôts chimiques en phase vapeur activés par plasma (PACVD)
note	LA TECHNIQUE DE DEPOTS CHIMIQUES EN PHASE ACTIVITES PAR PLASMA A CONNU AU COURS DE CES DERNIERES ANNEES UN DEVELOPPEMENT IMPORTANT. NOTRE TRAVAIL A CONSISTE A METTRE AU POINT UN EQUIPEMENT INDUSTRIEL DE DEPOTS ASSISTES PAR PLASMA ET A EN OPTIMISER LES PERFORMANCES. AU COURS DE CETTE ETUDE ONT ETE REALISES DES DEPOTS DE FILMS DIELECTRIQUES (OXYDES, NITRURES...) UTILISES LORS DE L'ELABORATION DES CIRCUITS INTEGRES. UNE ANALYSE SYSTEMATIQUE DES DIFFERENTS PARAMETRES DE DEPOTS (TEMPERATURE, PRESSION, MELANGES GAZEUX, PUISSANCE DE PLASMA, POSITIONNEMENT DES PLAQUETTES, ETC...) INTERVENANT LORS DES PROCESSUS TECHNOLOGIQUES EST PRESENTEE DANS CE MEMOIRE
dc:type	Text
http://iflastandar...bd/elements/P1001	http://iflastandards.info/ns/isbd/terms/contentform/T1009
rdaw:P10219	1987
has content type	http://rdaregistry.info/termList/RDAContentType/1020
is primary topic of	http://www.idref.fr/217576087
is rdam:P30135 of	http://www.sudoc.fr/005674093/id http://www.sudoc.fr/126364370/id

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