About: Analyse et modélisation du fonctionnement d'un réacteur de dépôt de silicum amorphe hydrogéné assisté par plasma

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Attributes	Values
type	frbr:Work rdac:C10001
Thesis advisor	Despax, Bernard Couderc, Jean-Pierre (1941-.... ; microélectronicien)
Author	Layeillon, Lise
alternative label	Reactor modelling a plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon
dc:subject	Thèses et écrits académiques Technique des plasmas Plasmas froids Plasmachimie Silicium -- Couches minces Projection au plasma Réacteurs chimiques -- Modèles mathématiques
preferred label	Analyse et modélisation du fonctionnement d'un réacteur de dépôt de silicum amorphe hydrogéné assisté par plasma
Language	http://lexvo.org/id/iso639-3/fra
Subject	http://www.idref.fr/027674533/id http://www.idref.fr/031376290/id http://www.idref.fr/02783364X/id http://www.idref.fr/027551385/id http://www.idref.fr/029493102/id http://www.idref.fr/027253139/id http://www.idref.fr/02753636X/id http://www.idref.fr/029717825/id
dc:title	Analyse et modélisation du fonctionnement d'un réacteur de dépôt de silicum amorphe hydrogéné assisté par plasma
Degree granting institution	Institut national polytechnique (Toulouse ; 1969-....)
note	LE DEPOT DE SILICIUM AMORPHE HYDROGENE ASSISTE PAR PLASMA (PECVD) A PARTIR DU SILANE EST UN PROCEDE COURAMMENT EMPLOYE POUR LA FABRICATION DE CELLULES PHOTOVOLTAIQUES, D'ECRANS PLATS DE VISUALISATION, OU DE DETECTEURS DIVERS. MALGRE L'EXISTENCE DE NOMBREUX TRAVAUX CONCERNANT L'ANALYSE DE PHENOMENES PARTICULIERS ELECTRIQUES OU CHIMIQUES DANS CES DECHARGES, AUCUNE ETUDE COMPLETE DU COMPORTEMENT DE REACTEURS INDUSTRIELS, INTEGRANT EN PARTICULIER L'EXAMEN DES PHENOMENES DE TRANSPORT, N'AVAIT ETE ENTREPRISE JUSQU'A PRESENT. NOUS AVONS DONC DEMARRE DE TELS TRAVAUX DANS LE CADRE D'UNE ACTION DE RECHERCHE COORDONNEE DU CNRS, EN VUE D'ELABORER UN MODELE DE SIMULATION LOCAL ET BIDIMENSIONNEL, TRES DETAILLE, QUI NOUS A PERMIS DE DETERMINER LES PROFILS DE VITESSE, DE CONCENTRATION DES ESPECES GAZEUSES ET LES VITESSES DE DEPOT DANS UN REACTEUR DE GEOMETRIE CLASSIQUE. AU VU DES PREMIERS RESULTATS, NOUS AVONS PU SIMPLIFIER CE LOGICIEL, AFIN D'OBTENIR UN OUTIL D'UTILISATION PLUS RAPIDE. IL NOUS A AINSI ETE POSSIBLE D'EFFECTUER UNE ANALYSE NUMERIQUE SYSTEMATIQUE DES PROCESSUS CHIMIQUES MIS EN JEU DANS LA DECHARGE ET DE L'INFLUENCE DES DONNEES CINETIQUES CORRESPONDANTES. LA CONFRONTATION ENTRE LES RESULTATS EXPERIMENTAUX, OBTENUS SUR UNE UNITE PILOTE, ET LES INFORMATIONS FOURNIES PAR L'EXPLOITATION DES LOGICIELS, A PERMIS D'ETABLIR LA QUALITE DES MODELES. NOUS AVONS PU, AINSI, AMELIORER LA CONNAISSANCE DU PROCEDE DE DEPOT ASSISTE PAR PLASMA, ET CONSTITUER DES LOGICIELS SUSCEPTIBLES D'ETRE UTILISES POUR OPTIMISER LES EXPLOITATIONS D'EQUIPEMENTS DE DEPOT
dc:type	Text
http://iflastandar...bd/elements/P1001	http://iflastandards.info/ns/isbd/terms/contentform/T1009
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is primary topic of	http://www.idref.fr/25965454X
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