About: Étude de la fiabilité sous éclairement des transistors spécifiques aux applications capteurs d'images à pixels actifs   Goto Sponge  NotDistinct  Permalink

An Entity of Type : rdac:C10001, within Data Space : data.idref.fr associated with source document(s)

AttributesValues
type
Thesis advisor
Author
alternative label
  • Reliability study under illumination of transistors for active pixel sensors applications
dc:subject
  • Thèses et écrits académiques
  • Fiabilité
preferred label
  • Étude de la fiabilité sous éclairement des transistors spécifiques aux applications capteurs d'images à pixels actifs
Language
Subject
dc:title
  • Étude de la fiabilité sous éclairement des transistors spécifiques aux applications capteurs d'images à pixels actifs
Degree granting institution
note
  • In APS, the photoelectric conversion is performed by a photodiode that is the source of a transfer transistor. Because of the focalisation of used lenses, the light undergone by a pixel can be very high and lead to reliability issues. In this thesis visible light has been included in the reliability study of the transfer transistors. Degradation induced by light was demonstrated. TCAD simulations and low frequency noise measurements have shown that degradation is related to a change in the conduction path of carries between the photodiode and the channel . This effect is reversible by applying an electric field. The physical origin of this degradation has been attributed to the generation of positive charges in the borderless nitride by Syaebler Wronski effect. This thesis presents first works in this field of study. A degradation never studied before was highlighted and a physical mechanism to explain it was proposed.
  • Les capteurs d’images à pixels actifs se sont largement imposés sur le marché, aidés par la pénétration des technologies CMOS. La fonction de conversion photo-électrique est assurée par une photodiode à la source d’un transistor de transfert. En raison de la focalisation du système de lentilles utilisé, la puissance lumineuse au niveau du silicium est très importante et peut générer des défauts entraînant des problèmes de fiabilité. Ce travail de thèse a consisté à inclure la lumière visible comme contrainte lors de l’étude de fiabilité des transistors de transfert. Une dégradation induite par la lumière a été mise en évidence. Des simulations TCAD et des mesures de bruit basse fréquence ont montré qu’elle est liée à un changement du chemin de conduction des porteurs entre la photodiode et le canal. Cet effet est réversible par l’application d’un champ électrique. L’origine physique de cette dégradation a été attribuée à l’apparition de charges positives, par effet Staebler Wronski, dans une des couches du pré-métal (le nitrure borderless). Cette thèse présente les premiers travaux dans ce domaine d’étude. Elle a permis de mettre en évidence une dégradation jamais étudiée et de proposer un mécanisme physique permettant de l’expliquer.
dc:type
  • Text
http://iflastandar...bd/elements/P1001
rdaw:P10219
  • 2009
has content type
is primary topic of
is rdam:P30135 of
Faceted Search & Find service v1.13.91 as of Aug 16 2018


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:       RDF       ODATA       Microdata      About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data]
OpenLink Virtuoso version 07.20.3229 as of May 14 2019, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (70 GB total memory)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software